離子濺射系統(tǒng)是一種基于物理氣相沉積(PVD)的薄膜制備技術(shù)，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。本文從原理、核心組件和技術(shù)優(yōu)勢以及分類四方面展開分析。

　　1. 工作原理。

　　- 濺射機(jī)制：氬離子在高真空環(huán)境中被電場加速轟擊靶材表面，通過動量傳遞使靶材原子脫離并沉積到基片表面。

　　- 能量控制：通過調(diào)節(jié)電壓(通常為300-1000V)和氣體壓力(0.1-10Pa)控制薄膜生長速率與致密性。

　　2. 系統(tǒng)組成。

　　-離子源?：產(chǎn)生高能離子束(如聚焦束考夫曼源或平柵離子源)，能量范圍通常為0.5–3 keV，束流可達(dá)150 mA?12。

　　-?靶材?：被轟擊的材料，其原子通過濺射轉(zhuǎn)移到基片表面。

　　-?真空系統(tǒng)?：工作真空度需達(dá)1–2×10?2 Pa，極限真空可達(dá)4×10?? Pa?12。

　　-加速器?：用于提升離子束能量，增強(qiáng)轟擊效率?2。

　　?-中和裝置?：如燈絲中和，防止電荷積累對工藝的影響?1。

　　3. 技術(shù)優(yōu)勢 。

　　- 可制備金屬、陶瓷、高分子等多種薄膜材料。

　　- 薄膜附著力強(qiáng)，厚度均勻性達(dá)±5%以內(nèi)。

　　?4.按功能分類。

　　-離子束輔助磁控濺射?：結(jié)合磁控技術(shù)提升沉積效率?5。

　　?-多功能聯(lián)合系統(tǒng)?：支持離子注入、濺射沉積及混合工藝。